前几天Intel发布了最新的CPU工艺路线图，瞄准2024年的20A工艺也首次亮相，会使用GAA晶体管工艺，Intel推出了RibbonFET及PowerVia两项技术。

接下来是Intel 18A，预计2025年初投产，继续强化RibbonFET，还有下一代高NA EUV光刻，与ASML合作。

Intel决心在半导体工艺上重回领先地位，台积电也面临压力，好消息是他们的2nm工艺Fab20日前获批。

据介绍，Fab20工厂将分为4期厂房逐步动工，前2期厂房预估会在2023年下半年完工并展开装机作业，2024年下半年可望进入量产阶段，2nm工艺4期厂房全部完工量产要到2025～2026年，总月产能将逾10万片规模。

台积电的2nm工艺虽然没有详细规格流出，但也会上GAA晶体管，台积电为此开发了新的nanosheet纳米片技术，可以更好地控制阈值电压(Vt)，波动降低至少15%，改善芯片设计。